شرکت فناوری نیمههادی سمیسرا، مستقر در نینگبو، استان ژجیانگ، چین، در ژانویه ۲۰۱۸ تأسیس شد. ماموریت ما شکل دادن به آینده از طریق مواد است و چشمانداز ما تبدیل شدن به یک شرکت پیشرو در زمینه مواد جدید با فناوریهای اصلی در حوزه نیمههادیها است. ما در تحقیق و توسعه فناوریهای پیشرفته مانند پوششهای SiC، پوششهای Tac، پوششهای کربن پیرولیتیک، SiC CVD (SiC جامد) و کاربید سیلیکون تبلور مجدد یافته، که برای صنعت نیمههادیها حیاتی هستند، تخصص داریم. ما همچنین بر تولید انبوه محصولات مواد با خلوص بالا تمرکز داریم.
افتخار و گواهینامه
امکانات و آزمایشگاهها
کوره دمای بالای CVD
زیرلایههای پوشش برای اپیتاکسی تراشه LED، اپیتاکسی ویفر سیلیکون، زیرلایهها و اجزای اپیتاکسی نیمههادی نسل سوم، پوششهای TaC و موارد دیگر.
کوره تصفیه خلاء
خالصسازی عناصر مبتنی بر کربن مانند گرافیت، نمد کربن، پودر گرافیت و کامپوزیت کربن.
کوره گرافیتی افقی
در درجه اول برای عملیات حرارتی مواد کربنی در دمای بالا، مانند تف جوشی و گرافیتی کردن مواد کربنی، گرافیتی کردن فیلم PI، تف جوشی مواد رسانای حرارتی، تف جوشی و گرافیتی کردن طنابهای فیبر کربنی، گرافیتی کردن رشتههای فیبر کربنی، خالصسازی پودر گرافیت و سایر مواد مناسب برای گرافیتی کردن محیط کربنی استفاده میشود.
ماشینهای سیانسی
تجهیزات تست
ابزار چهار پرابهای
تجهیزات توسعه و تأیید مواد پوشش
ابزار تست CTE
GDMS
سیمز
مقدمهای بر زنجیره صنعتی اپیتاکسی تراشه نیمههادی