مقدمهای بر پوششدهی CVD TaC:
پوششدهی CVD TaC فناوریای است که از رسوب بخار شیمیایی برای رسوب پوشش کاربید تانتالوم (TaC) روی سطح یک زیرلایه استفاده میکند. کاربید تانتالوم یک ماده سرامیکی با کارایی بالا با خواص مکانیکی و شیمیایی عالی است. فرآیند CVD از طریق واکنش گازی، یک لایه نازک TaC یکنواخت روی سطح زیرلایه ایجاد میکند.
ویژگیهای اصلی:
سختی عالی و مقاومت در برابر سایشکاربید تانتالیوم سختی بسیار بالایی دارد و پوششدهی CVD TaC میتواند مقاومت به سایش زیرلایه را به میزان قابل توجهی بهبود بخشد. این امر، این پوشش را برای کاربرد در محیطهای با سایش بالا، مانند ابزارهای برش و قالبها، ایدهآل میکند.
پایداری دمای بالاپوششهای TaC از اجزای حیاتی کوره و راکتور در دماهای تا ۲۲۰۰ درجه سانتیگراد محافظت میکنند و پایداری خوبی از خود نشان میدهند. این پوششها پایداری شیمیایی و مکانیکی را در شرایط دمایی شدید حفظ میکنند و آن را برای پردازش در دمای بالا و کاربرد در محیطهای با دمای بالا مناسب میسازند.
پایداری شیمیایی عالیکاربید تانتالیوم مقاومت خوردگی قوی در برابر اکثر اسیدها و قلیاها دارد و پوشش CVD TaC میتواند به طور موثری از آسیب به زیرلایه در محیطهای خورنده جلوگیری کند.
نقطه ذوب بالاکاربید تانتالیوم نقطه ذوب بالایی (تقریباً 3880 درجه سانتیگراد) دارد و به همین دلیل میتوان از پوشش CVD TaC در شرایط دمایی بسیار بالا بدون ذوب شدن یا تخریب استفاده کرد.
رسانایی حرارتی عالیپوشش TaC رسانایی حرارتی بالایی دارد که به دفع مؤثر گرما در فرآیندهای با دمای بالا و جلوگیری از گرم شدن موضعی کمک میکند.
کاربردهای بالقوه:
• اجزای راکتور CVD اپیتاکسیال گالیوم نیترید (GaN) و سیلیکون کاربید شامل حاملهای ویفر، دیشهای ماهواره، سردوشها، سقفها و گیرندهها
• اجزای رشد کریستال کاربید سیلیکون، نیترید گالیم و نیترید آلومینیوم (AlN) شامل بوتهها، نگهدارندههای بذر، حلقههای راهنما و فیلترها
• قطعات صنعتی شامل المنتهای گرمایش مقاومتی، نازلهای تزریق، حلقههای پوششی و قطعات لحیمکاری سخت
ویژگیهای برنامه:
• پایداری دما در دمای بالاتر از 2000 درجه سانتیگراد، امکان کارکرد در دماهای بسیار بالا
• مقاوم در برابر هیدروژن (Hz)، آمونیاک (NH3)، مونوسیلان (SiH4) و سیلیکون (Si)، محافظت در محیطهای شیمیایی خشن
• مقاومت در برابر شوک حرارتی آن، چرخههای عملیاتی سریعتر را امکانپذیر میکند
• گرافیت چسبندگی قوی دارد و عمر طولانی و عدم لایه لایه شدن پوشش را تضمین میکند.
• خلوص فوق العاده بالا برای حذف ناخالصی ها یا آلاینده های غیرضروری
• پوشش پوششی منسجم با تلورانسهای ابعادی دقیق
مشخصات فنی:
تهیه پوششهای کاربید تانتالیوم متراکم با روش رسوب بخار شیمیایی (CVD):
پوشش TAC با بلورینگی بالا و یکنواختی عالی:
پارامترهای فنی پوشش CVD TAC_Semicera:
| خواص فیزیکی پوشش TaC | |
| تراکم | ۱۴.۳ (گرم بر سانتیمتر مکعب) |
| غلظت فله | ۸ × ۱۰15/ سانتی متر |
| ضریب گسیلندگی ویژه | ۰.۳ |
| ضریب انبساط حرارتی | ۶.۳ ۱۰-6/K |
| سختی (هنگ کنگ) | ۲۰۰۰ هنگ کنگ |
| مقاومت حجمی | ۴.۵ اهم-سانتیمتر |
| مقاومت | ۱x۱۰-5اهم*سانتی متر |
| پایداری حرارتی | <2500℃ |
| تحرک | ۲۳۷ سانتیمتر2/در مقابل |
| تغییرات اندازه گرافیت | -10 ~ -20um |
| ضخامت پوشش | مقدار معمول ≥20um (35um + 10um) |
مقادیر فوق، مقادیر معمول هستند..













