زیرلایه 4H-SiC نوع P با زاویه 2 تا 6 اینچ 4 درجه

توضیحات کوتاه:

‌خارج از زاویه 4 درجه نوع P، بستر 4H-SiC، یک ماده نیمه هادی خاص است، که در آن "زاویه 4 درجه" به زاویه جهت کریستالی ویفر که 4 درجه خارج از زاویه است، و "نوع P" به این اشاره دارد. نوع هدایت نیمه هادی این ماده کاربردهای مهمی در صنعت نیمه هادی ها به ویژه در زمینه الکترونیک قدرت و الکترونیک فرکانس بالا دارد.


جزئیات محصول

برچسب های محصول

زیرلایه‌های 4H-SiC 2 تا 6 اینچی Semicera با زاویه خارج از زاویه 4 درجه، برای پاسخگویی به نیازهای روزافزون تولیدکنندگان دستگاه‌های RF و قدرت با کارایی بالا مهندسی شده‌اند. جهت گیری خارج از زاویه 4 درجه رشد همپایه بهینه را تضمین می کند و این بستر را به پایه ای ایده آل برای طیف وسیعی از دستگاه های نیمه هادی از جمله ماسفت ها، IGBT ها و دیودها تبدیل می کند.

این زیرلایه 4H-SiC از نوع P با زاویه 2 تا 6 اینچ و 4 درجه، دارای خواص مواد عالی، از جمله هدایت حرارتی بالا، عملکرد الکتریکی عالی، و پایداری مکانیکی فوق العاده است. جهت گیری خارج از زاویه به کاهش چگالی میکرولوله کمک می کند و لایه های همپایی صاف تر را ارتقا می دهد، که برای بهبود عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه نیمه هادی نهایی بسیار مهم است.

زیرلایه‌های 4H-SiC 2 تا 6 اینچ 4 درجه خارج از زاویه P Semicera در قطرهای مختلف، از 2 اینچ تا 6 اینچ، برای برآوردن نیازهای مختلف تولید در دسترس هستند. بسترهای ما دقیقاً طوری طراحی شده‌اند که سطوح دوپینگ یکنواخت و ویژگی‌های سطحی با کیفیت بالا را ارائه دهند و اطمینان حاصل کنند که هر ویفر دارای مشخصات دقیق مورد نیاز برای کاربردهای الکترونیکی پیشرفته است.

تعهد Semicera به نوآوری و کیفیت تضمین می کند که زیرلایه های 4H-SiC نوع P با زاویه 2 تا 6 اینچ با زاویه خارج از زاویه 4 درجه، عملکرد ثابتی را در طیف گسترده ای از کاربردها از الکترونیک قدرت گرفته تا دستگاه های فرکانس بالا ارائه می دهند. این محصول راه حلی قابل اعتماد برای نسل بعدی نیمه هادی های با کارایی انرژی و کارایی بالا ارائه می دهد که از پیشرفت های فناوری در صنایعی مانند خودروسازی، مخابرات و انرژی های تجدید پذیر پشتیبانی می کند.

استانداردهای مربوط به اندازه

اندازه 2 اینچ 4 اینچ
قطر 50.8 میلی متر ± 0.38 میلی متر 100.0 میلی متر + 0/-0.5 میلی متر
جهت گیری سطحی 4 درجه به سمت <11-20>±0.5 درجه 4 درجه به سمت <11-20>±0.5 درجه
طول تخت اولیه 16.0 میلی متر ± 1.5 میلی متر 32.5mm±2mm
طول تخت ثانویه 8.0 میلی متر ± 1.5 میلی متر 18.0 میلی متر ± 2 میلی متر
جهت گیری مسطح اولیه به موازات <11-20>±5.0 درجه موازی<11-20>±5.0c
جهت گیری تخت ثانویه 90 درجه سانتی گراد از اولیه ± 5.0 درجه، رو به بالا سیلیکون 90 درجه سانتی گراد از اولیه ± 5.0 درجه، رو به بالا سیلیکون
پایان سطح C-Face: پولیش نوری، Si-Face: CMP C-Face: OpticalPolish، Si-Face: CMP
لبه ویفر اریب اریب
زبری سطح Si-Face Ra<0.2 نانومتر Si-Face Ra<0.2nm
ضخامت 25.0±350.0 میلی متر 25.0±350.0 میلی متر
چند تایپ 4H 4H
دوپینگ p-type p-type

استانداردهای مربوط به اندازه

اندازه 6 اینچ
قطر 150.0 میلی متر + 0/-0.2 میلی متر
جهت گیری سطح 4 درجه به سمت <11-20>±0.5 درجه
طول تخت اولیه 47.5 میلی متر ± 1.5 میلی متر
طول تخت ثانویه هیچ کدام
جهت گیری مسطح اولیه موازی با <11-20>±5.0 درجه
جهت گیری تخت ثانویه 90 درجه سانتی گراد از اولیه ± 5.0 درجه، سیلیکون رو به بالا
پایان سطح C-Face: پولیش نوری، Si-Face:CMP
لبه ویفر اریب
زبری سطح Si-Face Ra<0.2 نانومتر
ضخامت 350.0±25.0μm
چند تایپ 4H
دوپینگ p-type

رامان

2-6 اینچ 4 درجه خارج از زاویه P-نوع 4H-SiC بستر-3

منحنی تاب

2-6 اینچ 4 درجه خارج از زاویه P-نوع 4H-SiC بستر-4

تراکم دررفتگی (اچ کردن KOH)

2-6 اینچ 4 درجه خارج از زاویه P-نوع 4H-SiC بستر-5

تصاویر حکاکی KOH

2-6 اینچ 4 درجه خارج از زاویه P-نوع بستر 4H-SiC-6
ویفرهای SiC

  • قبلی:
  • بعدی: