روش PART/1CVD (رسوب بخار شیمیایی): در دمای 900-2300 درجه سانتیگراد، با استفاده از TaCl5 و CnHm به عنوان منابع تانتالیوم و کربن، H2 به عنوان اتمسفر کاهنده، Ar2 به عنوان گاز حامل، فیلم رسوب واکنش.پوشش تهیه شده فشرده، یکنواخت و با خلوص بالا است.با این حال، مشکلاتی وجود دارد ...
ادامه مطلب