سی سی سی سی ویفر قایق
قایق ویفر کاربید سیلیکونیک دستگاه باربر برای ویفرها است که عمدتاً در فرآیندهای انتشار خورشیدی و نیمه هادی استفاده می شود.دارای ویژگی هایی مانند مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، مقاومت در برابر ضربه در دمای بالا، مقاومت در برابر بمباران پلاسما، ظرفیت تحمل دمای بالا، هدایت حرارتی بالا، اتلاف حرارت بالا و استفاده طولانی مدت است که خم شدن و تغییر شکل دادن آن آسان نیست.شرکت ما از مواد کاربید سیلیکون با خلوص بالا برای اطمینان از عمر مفید استفاده می کند و طرح های سفارشی از جمله ارائه می دهد.مختلف عمودی و افقیقایق ویفر.
پدل SiC
رادست و پا زدن کنسول کاربید سیلیکونعمدتاً در پوشش ( انتشار) ویفرهای سیلیکونی استفاده می شود که نقش مهمی در بارگیری و حمل و نقل ویفرهای سیلیکونی در دمای بالا ایفا می کند.جزء کلیدی استویفر نیمه هادیسیستم های بارگیری و دارای ویژگی های اصلی زیر است:
1. در محیط های با دمای بالا تغییر شکل نمی دهد و نیروی بارگذاری بالایی روی ویفرها دارد.
2. در برابر سرمای شدید و گرمای سریع مقاوم است و عمر طولانی دارد.
3. ضریب انبساط حرارتی کوچک است، تا حد زیادی چرخه نگهداری و تمیز کردن را گسترش می دهد و آلاینده ها را به میزان قابل توجهی کاهش می دهد.
لوله کوره SiC
لوله فرآیند کاربید سیلیکونساخته شده از SiC با خلوص بالا و بدون ناخالصی های فلزی، ویفر را آلوده نمی کند و برای فرآیندهایی مانند انتشار نیمه هادی و فتوولتائیک، بازپخت و فرآیند اکسیداسیون مناسب است.
بازوی ربات SiC
بازوی ربات SiCکه به عنوان اثرگذار پایانی انتقال ویفر نیز شناخته می شود، یک بازوی رباتیک است که برای انتقال ویفرهای نیمه هادی استفاده می شود و به طور گسترده در صنایع نیمه هادی، نوری الکترونیک و انرژی خورشیدی استفاده می شود.استفاده از کاربید سیلیکون با خلوص بالا، با سختی بالا، مقاومت در برابر سایش، مقاومت لرزه ای، استفاده طولانی مدت بدون تغییر شکل، عمر طولانی و غیره، می تواند خدمات سفارشی را ارائه دهد.
گرافیت برای رشد کریستال
سپر حرارتی گرافیت
لوله الکترود گرافیت
منحرف کننده گرافیت
چاک گرافیت
تمام فرآیندهای مورد استفاده برای رشد کروستال های نیمه هادی در محیط های با دمای بالا و خورنده عمل می کنند.منطقه داغ کوره رشد کریستال معمولاً با خلوص بالا مقاوم در برابر حرارت و مقاوم در برابر خوردگی است.اجزای گرافیت مانند گرمکن های گرافیتی، بوته ها، سیلندرها، منحرف کننده ها، چاک ها، لوله ها، حلقه ها، نگهدارنده ها، مهره ها و غیره محصول نهایی ما می تواند محتوای خاکستری کمتر از 5ppm داشته باشد.
گرافیت برای اپیتاکسی نیمه هادی
پایه گرافیت
بشکه اپیتاکسیال گرافیت
پایه اپیتاکسیال سیلیکونی استالین مونوکری
قطعات گرافیت MOCVD
فیکسچر گرافیت نیمه هادی
فرآیند اپیتاکسیال به رشد یک ماده تک کریستالی بر روی یک بستر تک کریستالی با آرایش شبکه ای مشابه زیرلایه اشاره دارد.به بسیاری از قطعات گرافیتی با خلوص فوق العاده بالا و پایه گرافیت با پوشش SIC نیاز دارد.گرافیت با خلوص بالا که برای اپیتاکسی نیمه هادی استفاده می شود، طیف وسیعی از کاربردها را دارد، که می تواند با رایج ترین تجهیزات مورد استفاده در صنعت مطابقت داشته باشد، در عین حال، بسیار بالا است.خلوص، پوشش یکنواخت، عمر مفید عالی و مقاومت شیمیایی بسیار بالا و پایداری حرارتی.
مواد عایق و غیره
مواد عایق حرارتی مورد استفاده در تولید نیمه هادی ها نمد سخت گرافیت، نمد نرم، فویل گرافیت، مواد کامپوزیت کربن و ... می باشد. کلمواد کامپوزیت کربن معمولاً به عنوان یک حامل برای فرآیند تولید سلول های تک کریستال خورشیدی و پلی سیلیکون استفاده می شود.