Semicera'sچاک خلاء Al2O3ایده آل برای تولید نیمه هادی است، به ویژه در کاربردهایی که نیاز به دقت و قابلیت اطمینان بالایی دارند. این چاک خلاء که از اکسید آلومینیوم با کیفیت بالا (Al2O3) ساخته شده است، دارای پایداری حرارتی عالی و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی است تا نیازهای محیط های پردازش سخت را برآورده کند. از طریق طراحی بهینه، Semicera اطمینان حاصل می کند که این کار استچاک خلاء Al2O3می تواند نیروی گیره عالی را تحت شرایط مختلف فرآیند حفظ کند و کارایی و ایمنی را در طول پردازش ویفر تضمین کند.
هنگام پردازشنیترید سیلیکون (Si3N4)وکاربید سیلیکون (SiC)چاک خلاء Al2O3 Semicera یکنواختی و پایداری گیره خلاء را از طریق طراحی ساختاری منحصر به فرد خود بهبود می بخشد. این ویژگی نه تنها از دست دادن مواد را کاهش می دهد، بلکه راندمان تولید را نیز تا حد زیادی بهبود می بخشد و تضمین می کند که هر مرحله پردازش می تواند بهترین نتایج را به دست آورد.
علاوه بر این، Semicera'sچاک خلاء Al2O3از نظر سازگاری عالی است و می تواند به طور یکپارچه با انواع تجهیزات پردازش نیمه هادی برای رفع نیازهای خطوط تولید مختلف متصل شود. چه در مرحله تحقیق و توسعه و چه در تولید انبوه، این چاک خلاء می تواند پشتیبانی قابل اعتمادی را برای کمک به مشتریان در بازار رقابتی ارائه دهد.
Semicera همیشه متعهد به ارائه راه حل های تولید نیمه هادی با کارایی بالا به مشتریان بوده است و راه اندازی چاک خلاء Al2O3 بازتابی از نوآوری تکنولوژیکی و تعهد کیفیت آن است. با انتخاب محصولات Semicera، مشتریان می توانند عملکرد و قابلیت اطمینان عالی را به دست آورند و در نتیجه به فرآیندهای تولید کارآمدتر و خروجی محصول با کیفیت بالاتر دست پیدا کنند.
