مواد خام CVD SiC با خلوص بالا توسط Semicera یک ماده پیشرفته است که برای استفاده در کاربردهای با کارایی بالا که به پایداری حرارتی، سختی و خواص الکتریکی استثنایی نیاز دارند، طراحی شده است. این ماده خام که از کاربید سیلیکون رسوب بخار شیمیایی (CVD) با کیفیت بالا ساخته شده است، خلوص و قوام عالی را ارائه می دهد و آن را برای ساخت نیمه هادی، پوشش های با دمای بالا و سایر کاربردهای صنعتی دقیق ایده آل می کند.
ماده خام CVD SiC با خلوص بالا Semicera به دلیل مقاومت عالی در برابر سایش، اکسیداسیون و شوک حرارتی شناخته شده است و عملکرد قابل اعتماد را حتی در سخت ترین محیط ها تضمین می کند. چه در تولید دستگاه های نیمه هادی، ابزارهای ساینده یا پوشش های پیشرفته استفاده شود، این ماده پایه محکمی برای کاربردهای با کارایی بالا که بالاترین استانداردهای خلوص و دقت را می طلبد، فراهم می کند.
با مواد خام CVD SiC با خلوص بالا Semicera، تولید کنندگان می توانند به کیفیت محصول و کارایی عملیاتی برتر دست یابند. این ماده از طیف وسیعی از صنایع، از الکترونیک گرفته تا انرژی پشتیبانی می‌کند و دوام و عملکردی را ارائه می‌دهد که بی‌میزان است.
مواد اولیه کاربید سیلیکون CVD با خلوص بالا Semicera دارای ویژگی های زیر است:
▪خلوص بالا:محتوای ناخالصی بسیار کم، اطمینان از قابلیت اطمینان دستگاه.
▪بلورینگی بالا:ساختار کریستالی کامل، که منجر به بهبود عملکرد دستگاه می شود.
▪چگالی نقص کم:تعداد کم نقص، جریان نشتی دستگاه را کاهش می دهد.
▪سایز بزرگ:بسترهای کاربید سیلیکون با اندازه بزرگ را می توان برای رفع نیازهای مشتریان مختلف تهیه کرد.
▪خدمات سفارشی:انواع مختلف و مشخصات مواد کاربید سیلیکون را می توان با توجه به نیاز مشتری سفارشی کرد.
مزایای محصول
▪ فاصله باند گسترده:کاربید سیلیکون دارای ویژگی باند گپ گسترده است که آن را قادر می سازد در محیط های سخت مانند دمای بالا، فشار بالا و فرکانس بالا عملکرد عالی داشته باشد.
▪ولتاژ شکست بالا:دستگاه‌های کاربید سیلیکون ولتاژ شکست بالاتری دارند و می‌توانند دستگاه‌هایی با قدرت بالاتر تولید کنند.
▪هدایت حرارتی بالا:کاربید سیلیکون دارای رسانایی حرارتی عالی است که منجر به اتلاف گرمای دستگاه می شود.
▪تحرک الکترون بالا:دستگاه های کاربید سیلیکون دارای تحرک الکترون بالاتری هستند که می تواند فرکانس کاری دستگاه را افزایش دهد.
