-
فرآیند و تجهیزات نیمه هادی (4/7)- فرآیند و تجهیزات فوتولیتوگرافی
یک مرور کلی در فرآیند تولید مدار مجتمع، فتولیتوگرافی فرآیند اصلی است که سطح یکپارچه سازی مدارهای مجتمع را تعیین می کند. عملکرد این فرآیند انتقال و انتقال صادقانه اطلاعات گرافیکی مدار از ماسک (که ماسک نیز نامیده می شود) است.ادامه مطلب -
سینی مربع کاربید سیلیکون چیست؟
سینی مربع کاربید سیلیکون یک ابزار حمل با کارایی بالا است که برای تولید و پردازش نیمه هادی ها طراحی شده است. عمدتاً برای حمل مواد دقیق مانند ویفرهای سیلیکونی و ویفرهای کاربید سیلیکون استفاده می شود. به دلیل سختی بسیار بالا، مقاومت در برابر دمای بالا و مواد شیمیایی ...ادامه مطلب -
سینی کاربید سیلیکون چیست؟
سینی های کاربید سیلیکون، که به عنوان سینی های SiC نیز شناخته می شوند، مواد مهمی هستند که برای حمل ویفرهای سیلیکونی در فرآیند تولید نیمه هادی استفاده می شوند. کاربید سیلیکون دارای خواص بسیار خوبی مانند سختی بالا، مقاومت در برابر دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی است، بنابراین به تدریج جایگزین ...ادامه مطلب -
فرآیند و تجهیزات نیمه هادی (3/7) - فرآیند و تجهیزات گرمایش
1. نمای کلی گرمایش، همچنین به عنوان پردازش حرارتی شناخته می شود، به فرآیندهای تولیدی اشاره دارد که در دماهای بالا، معمولا بالاتر از نقطه ذوب آلومینیوم عمل می کنند. فرآیند گرمایش معمولاً در یک کوره با دمای بالا انجام می شود و شامل فرآیندهای عمده ای مانند اکسیداسیون، ...ادامه مطلب -
فناوری و تجهیزات نیمه هادی (2/7) - تهیه و پردازش ویفر
ویفرها مواد اولیه اصلی برای تولید مدارهای مجتمع، دستگاه های نیمه هادی گسسته و دستگاه های قدرت هستند. بیش از 90 درصد مدارهای مجتمع بر روی ویفرهای با خلوص و کیفیت بالا ساخته می شوند. تجهیزات تهیه ویفر به فرآیند ساخت سیلیکو پلی کریستالی خالص اشاره دارد...ادامه مطلب -
حامل ویفر RTP چیست؟
درک نقش آن در ساخت نیمه هادی ها بررسی نقش اساسی حامل های ویفر RTP در پردازش پیشرفته نیمه هادی ها در دنیای تولید نیمه هادی ها، دقت و کنترل برای تولید دستگاه های با کیفیت بالا که قدرت الکترونیک مدرن را تامین می کنند، بسیار مهم است. یکی از...ادامه مطلب -
حامل Epi چیست؟
بررسی نقش حیاتی آن در پردازش ویفر همبسته درک اهمیت حامل های Epi در ساخت نیمه هادی های پیشرفته در صنعت نیمه هادی، تولید ویفرهای اپیتاکسیال (epi) با کیفیت بالا یک گام مهم در ساخت دستگاه های ...ادامه مطلب -
فرآیند و تجهیزات نیمه هادی (1/7) - فرآیند تولید مدار مجتمع
1. درباره مدارهای مجتمع 1.1 مفهوم و تولد مدارهای مجتمع مدار مجتمع (IC): به دستگاهی اطلاق می شود که دستگاه های فعال مانند ترانزیستورها و دیودها را با اجزای غیرفعال مانند مقاومت ها و خازن ها از طریق یک سری پردازش های خاص ترکیب می کند.ادامه مطلب -
Epi Pan Carrier چیست؟
صنعت نیمه هادی برای تولید دستگاه های الکترونیکی با کیفیت بالا به تجهیزات بسیار تخصصی متکی است. یکی از این مؤلفه‌های حیاتی در فرآیند رشد اپیتاکسیال حامل epi pan است. این تجهیزات نقش محوری در رسوب لایه های اپیتاکسیال بر روی ویفرهای نیمه هادی ایفا می کند.ادامه مطلب -
MOCVD Susceptor چیست؟
روش MOCVD یکی از پایدارترین فرآیندهایی است که در حال حاضر در صنعت برای رشد لایه های نازک تک کریستالی با کیفیت بالا مانند لایه های تک فاز InGaN، مواد III-N و فیلم های نیمه هادی با ساختار چاه کوانتومی چندگانه استفاده می شود و دارای نشانه های بسیار خوبی است. ...ادامه مطلب -
پوشش SiC چیست؟
پوشش‌های کاربید سیلیکون (SiC) به دلیل خواص فیزیکی و شیمیایی قابل توجهی که دارند به سرعت در کاربردهای مختلف با کارایی بالا ضروری می‌شوند. پوشش‌های SiC که از طریق تکنیک‌هایی مانند رسوب فیزیکی یا شیمیایی بخار (CVD) یا روش‌های پاشش به کار می‌روند، سطح را تغییر می‌دهند.ادامه مطلب -
حامل ویفر MOCVD چیست؟
در زمینه تولید نیمه هادی، فناوری MOCVD (رسوب بخار شیمیایی آلی فلزی) به سرعت در حال تبدیل شدن به یک فرآیند کلیدی است که حامل ویفر MOCVD یکی از اجزای اصلی آن است. پیشرفت در حامل ویفر MOCVD نه تنها در فرآیند تولید آن منعکس شده است بلکه ...ادامه مطلب