پوشش کربن پیرولیتیکلایه نازکی ازکربن پیرولیتیک پوشش داده شده استبر روی سطح ایزواستاتیک بسیار خالص شدهگرافیت با استفاده از فناوری رسوب بخار شیمیایی (CVD) دارای چگالی بالا، خلوص بالا و ناهمسانگرد استخواص حرارتی، الکتریکی، مغناطیسی و مکانیکی.
ویژگی های اصلی：
1. سطح متراکم و بدون منافذ است.
2. خلوص بالا، محتوای ناخالصی کل <20ppm،هوابندی خوب
3.مقاومت در برابر دمای بالا، استحکام با افزایش دمای استفاده افزایش می یابد و به بالاترین حد می رسدارزش در 2750 ℃، تصعید در 3600 ℃.
4.مدول الاستیک کم، هدایت حرارتی بالا، ضریب انبساط حرارتی پایین،و مقاومت در برابر شوک حرارتی عالی
5.پایداری شیمیایی خوب، مقاوم در برابر اسید، قلیایی، نمک و معرف های آلی و دارایهیچ تاثیری بر فلزات مذاب، سرباره و سایر محیط های خورنده ندارد. اکسید نمی شودبه طور قابل توجهی در اتمسفر زیر 400 ℃، و نرخ اکسیداسیون به طور قابل توجهیدر 800 ℃ افزایش می یابد.
6. بدون انتشار هیچ گازی در دماهای بالا، می تواند خلاء را حفظ کند10-7mmHg در حدود 1800 ℃.
کاربرد محصول:
1. بوته ذوب برای تبخیر درصنعت نیمه هادی
2. دروازه لوله الکترونیکی با قدرت بالا.
3. برس که با تنظیم کننده ولتاژ تماس دارد.
4. تک رنگ گرافیت برای اشعه ایکس و نوترون.
5. اشکال مختلف بسترهای گرافیتی وپوشش لوله جذب اتمی
اثر پوشش کربن پیرولیتیک زیر میکروسکوپ 500X، با سطح دست نخورده و مهر و موم شده.
