Semicera با افتخار معرفی می کندگیرنده ویفر با پوشش TaCکه به طور ویژه برای پاسخگویی به نیازهای فرآیندهای با دمای بالا، با استفاده از فرآیند پوشش CVD خلاقانه برای ارائه خواص عالی کاربید تانتالوم توسعه یافته است. ویفر Susceptor ما در دمای بالا و اتمسفرهای خورنده عملکرد خوبی دارد، بی اثری شیمیایی و پایداری حرارتی عالی را نشان می‌دهد و عملکرد قابل اعتماد را در محیط‌های شدید تضمین می‌کند.
این ویفر Susceptor از کیفیت بالایی بهره می بردپوشش TaC، که نه تنها مقاومت در برابر سایش را به طور قابل توجهی بهبود می بخشد، بلکه به طور موثر در برابر خوردگی شیمیایی مقاومت می کند و عمر طولانی را تضمین می کند. چه در اپیتاکسی سیلیکونی، رشد یا سایر کاربردهای نیمه هادی، گیرنده ویفر با پوشش TaC Semicera می تواند عملکرد پردازشی پایدار و کارآمدی را در اختیار کاربران قرار دهد.
Semicera همیشه متعهد به ارائه مواد و فناوری های پیشرفته به مشتریان بوده است. ماگیرنده ویفر با پوشش TaCتحت کنترل کیفیت دقیق در طول فرآیند طراحی و ساخت قرار می گیرد تا اطمینان حاصل شود که هر محصول با بالاترین استانداردها مطابقت دارد. ما همچنان به بهبود فرمولاسیون و فرآیندهای مواد برای کمک به مشتریان برای دستیابی به راندمان تولید و کیفیت محصول بالاتر در تولید نیمه هادی های پیچیده ادامه می دهیم.
وقتی Semicera's را انتخاب می کنیدگیرنده ویفر پوشش TaC، محصولی برتر دریافت می کنید که عملکرد فوق العاده ای را در دمای بالا و محیط های خورنده تضمین می کند و به کاربردهای صنعتی شما کمک می کند تا به ارتفاعات جدیدی برسند.
با و بدون TaC
پس از استفاده از TaC (سمت راست)
