بسترهای کاربید سیلیکون| ویفرهای SiC

توضیح کوتاه:

WeiTai Energy Technology Co. Ltd. یک تامین کننده پیشرو در زمینه ویفر و مواد مصرفی نیمه هادی پیشرفته است.ما به ارائه محصولات با کیفیت بالا، قابل اعتماد و نوآورانه برای تولید نیمه هادی، صنعت فتوولتائیک و سایر زمینه های مرتبط اختصاص داده شده ایم.

خط تولید ما شامل محصولات گرافیتی با پوشش SiC/TaC و محصولات سرامیکی است که شامل مواد مختلفی مانند کاربید سیلیکون، نیترید سیلیکون، و اکسید آلومینیوم و غیره است.

در حال حاضر، ما تنها تولید کننده ای هستیم که خلوص 99.9999٪ پوشش SiC و 99.9٪ کاربید سیلیکون متبلور شده را ارائه می دهیم.حداکثر طول پوشش SiC که می توانیم 2640 میلی متر انجام دهیم.


جزئیات محصول

برچسب های محصول

سی سی ویفر

مواد تک کریستالی کاربید سیلیکون (SiC) دارای عرض باند بزرگ (~Si 3 برابر)، رسانایی حرارتی بالا (~Si 3.3 برابر یا GaAs 10 برابر)، نرخ مهاجرت اشباع الکترون بالا (~Si 2.5 برابر)، الکتریکی شکست بالا. میدان (~Si 10 بار یا GaAs 5 بار) و سایر ویژگی های برجسته.

دستگاه های SiC دارای مزایای بی بدیل در زمینه دمای بالا، فشار بالا، فرکانس بالا، دستگاه های الکترونیکی با قدرت بالا و کاربردهای شدید محیطی مانند هوافضا، نظامی، انرژی هسته ای و غیره هستند که نقص دستگاه های نیمه هادی سنتی را در عمل جبران می کند. برنامه های کاربردی، و به تدریج در حال تبدیل شدن به جریان اصلی نیمه هادی های قدرت هستند.

مشخصات زیرلایه کاربید سیلیکون 4H-SiC

مورد 项目

مشخصات 参数

چند تایپ
晶型

4H -SiC

6H- SiC

قطر
晶圆直径

2 اینچ |3 اینچ |4 اینچ |6 اینچ

2 اینچ |3 اینچ |4 اینچ |6 اینچ

ضخامت
厚度

330 میکرومتر تا 350 میکرومتر

330 میکرومتر تا 350 میکرومتر

رسانایی
导电类型

N – نوع / نیمه عایق
N型导电片/ 半绝缘片

N – نوع / نیمه عایق
N型导电片/ 半绝缘片

دوپانت
掺杂剂

N2 (نیتروژن) V (وانادیوم)

N2 (نیتروژن) V (وانادیوم)

گرایش
晶向

در محور <0001>
خارج از محور <0001> خاموش 4 درجه

در محور <0001>
خارج از محور <0001> خاموش 4 درجه

مقاومت
电阻率

0.015 ~ 0.03 اهم سانتی متر
(4H-N)

0.02 ~ 0.1 اهم سانتی متر
(6H-N)

تراکم میکرولوله (MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

تی تی وی
总厚度变化

≤ 15 میکرومتر

≤ 15 میکرومتر

کمان / تار
翘曲度

≤25 میکرومتر

≤25 میکرومتر

سطح
表面处理

DSP/SSP

DSP/SSP

مقطع تحصیلی
产品等级

درجه تولید / تحقیق

درجه تولید / تحقیق

توالی چیدن کریستال
堆积方式

ABCB

ABCABC

پارامتر شبکه
晶格参数

a=3.076A، c=10.053A

a=3.073A، c=15.117A

Eg/eV (Band-gap)
禁带宽度

3.27 ولت

3.02 eV

ε (ثابت دی الکتریک)
介电常数

9.6

9.66

ضریب شکست
折射率

n0 = 2.719 ne = 2.777

n0 = 2.707، ne = 2.755

مشخصات زیرلایه سیلیکون کاربید 6H-SiC

مورد 项目

مشخصات 参数

چند تایپ
晶型

6H-SiC

قطر
晶圆直径

4 اینچ |6 اینچ

ضخامت
厚度

350μm ~ 450μm

رسانایی
导电类型

N – نوع / نیمه عایق
N型导电片/ 半绝缘片

دوپانت
掺杂剂

N2 (نیتروژن)
V (وانادیوم)

گرایش
晶向

<0001> کاهش 4°±0.5°

مقاومت
电阻率

0.02 ~ 0.1 اهم سانتی متر
(نوع 6H-N)

تراکم میکرولوله (MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

تی تی وی
总厚度变化

≤ 15 میکرومتر

کمان / تار
翘曲度

≤25 میکرومتر

سطح
表面处理

Si Face: CMP، Epi-Ready
C Face: پولیش نوری

مقطع تحصیلی
产品等级

نمره تحقیق

محل کار Semicera محل کار Semicera 2 دستگاه تجهیزات پردازش CNN، تمیز کردن شیمیایی، پوشش CVD خدمات ما


  • قبلی:
  • بعد: